本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。,标准网,标准分享网,标准下载网,免费标准网,标准信息网,国家标准网
T/CIE 132-2022 磁控溅射设备薄膜精度测试方
标准编号:T/CIE 132-2022 标准名称:磁控溅射设备薄膜精度测试方 发布部门:中国电子学会 起草单位:北京航空航天大学、合肥致真精密设备有限公司、合肥致真智能装备有限公司、北京维开科技有限公司、北京北方华创微电子装备有限公司、致真存储(北京)科技有限公司、深圳亘存科技有限责任公司 发布日期:2022-08-10 实施日期:2022-08-10 标准状态:现行 标准格式:PDF 文件大小:2.66 MB 内容简介 本标准给出了磁控溅射设备薄膜精度评价的术语、测试原理、被测件、测试环境、测试设备、测试程序等。本标准适用于磁控溅射设备沉积薄膜精度的验证。
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