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T/CSTM 01199-2024 多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
标准编号:T/CSTM 01199-2024
标准名称:多层金属薄膜 层结构测量分析方法 X射线光电子能谱
英文名称:Multilayer metal film-Measurement and analysis method of layer structure-X-ray photoelectron spectroscopy
发布部门:中关村材料试验技术联盟
起草单位:季华实验室、中国科学院上海硅酸盐研究所、广东工业大学、中国计量科学研究院、宁波新材料测试评价中心有限公司、中材新材料研究院(广州)有限公司
标准状态:现行
发布日期:2024-01-05
实施日期:2024-04-05
标准格式:PDF
内容简介
本文件规定了X射线光电子能谱仪(XPS)深度剖析测量多层金属薄膜层结构的分析方法。本文件适用于70 nm~240 nm深度内纳米尺度多层金属薄膜层成分、化学态、膜厚的表征。
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